Проанализировано влияние подачи высоковольтного потенциала в импульсной форме разной длительности на формирование преимущественно ориентированных кристаллитов и напряженно-деформированное состояние TiN вакуумно-дуговых покрытий. Показано, что осаждение покрытий в условиях высоковольного каскадообразующего воздействия приводит к росту кристаллитов с осью текстуры [110] и изменению напряженно-деформированного состояния: усилению деформации в группе кристаллитов с осью [110] и уменьшению деформации в группе кристаллитов с осью [111]. Полученные результаты объяснены увеличением подвижности атомов и процессами упорядочения в области каскадов смещений, образующихся под действием бомбардирующих высокоэнергетичных ионов, ускоренных в поле высоковольного импульсного потенциала. Построена обобщенная зависимость типа текстуры от величины импульсного потенциала и влияния доли длительности импульса, подаваемого на подложку, от общего времени осаждения.

  Повний текст PDF - 719.811 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"