Наукова періодика України | Journal of Nano- and Electronic Physics | ||
Saoudi A. Influence of the Surface Diffusion Length on the Roughness of Thin Layers Obtained by Random Deposition / A. Saoudi, L. Aissani, S. Boulahrouz, L. Radjehi, O. Chahaoui, M. Mebarki, H. Djebaili // Journal of nano- and electronic physics. - 2022. - Vol. 14, no. 5. - С. 05021-1-05021-5. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2022_14_5_23 У роботі описано теоретичну модель з використанням програмного забезпечення MATLAB, яка описує вплив довжини поверхневої дифузії D на топографію та динаміку росту тонких шарів, одержаних шляхом випадкового осадження. Одержані результати показують, що поверхня інтерфейсу стає більш гладкою за більшої довжини дифузії D. Для D >> 0 показник росту <$Ebeta> змінюється відповідно до двох різних режимів, <$Ebeta sub 1 ~=~0,5> представляє повністю випадковий режим росту, а показник <$Ebeta sub 2> зменшується зі збільшенням D. Шорсткість інтерфейсу ніколи не насичується за нульової довжини дифузії, тоді як показник шорсткості приймає нижче значення приблизно <$Ealpha~=~0,1450> за D = 4. Нарешті, коефіцієнти масштабування <$Ebeta ,~alpha> та z безпосередньо залежать від довжини дифузії D і не пов'язані з розміром підкладки L. Одержані результати узгоджуються з іншими попередніми теоретичними та експериментальними роботами. Цитованість авторів публікації: Бібліографічний опис для цитування: Saoudi A. Influence of the Surface Diffusion Length on the Roughness of Thin Layers Obtained by Random Deposition / A. Saoudi, L. Aissani, S. Boulahrouz, L. Radjehi, O. Chahaoui, M. Mebarki, H. Djebaili // Journal of nano- and electronic physics. - 2022. - Vol. 14, no. 5. - С. 05021-1-05021-5. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2022_14_5_23. Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |